Proyecto D03I1102

OBTENCION DIRECTA DE COBRE BLISTER EN REACTOR DE CAPA FUNDIDA
Proyecto Número:
D03I1102
Año:2003
Concurso: UNDECIMO CONCURSO NACIONAL DE PROYECTOS DE I+D
Tipo de Proyecto:
INVESTIGACION Y DESARROLLO C&T
Area Prioritaria:
MINERIA
Duración:
44 (meses)
Monto Fondef Asignado: 232
(en millones de pesos del año de adjudicación)
Sitio Web: http://


AREAS SECUNDARIAS
SIN INFORMACION
DISCIPLINAS ASOCIADAS
SIN INFORMACION

DIRECTOR GENERAL
Nombre: IGOR ANDRÉS WILKOMIRSKY FUICA
Dirección: EDMUNDO LARENAS 285
CONCEPCION
Teléfono: 41-2207047

INSTITUCION PRINCIPAL
Nombre: UNIVERSIDAD DE CONCEPCION
Dirección: VICTOR LAMAS 1290
CONCEPCION
Teléfono: 41-204000

OTRAS INSTITUCIONES
Instituciones Ejecutoras NO CONSIDERA
Otras Contrapartes CORPORACION NACIONAL DEL COBRE DE CHILE
CIMM TECNOLOGIAS Y SERVICIOS S.A.
PAUL WURTH CHILE

RESUMEN

RESUMEN

A) El proyecto propuesto tiene como principal objetivo el desarrollar un nuevo proceso de fusión/conversión en capa fundida para concentrados de cobre normales y/o como con altos contenidos de impurezas volátiles, principalmente arsénico y que permitirá en sólo una etapa producir directamente cobre blister a partir de concentrados.
Como segundo objetivo, el proyecto desarrollará una nueva tecnología de conversión en capa fundida para tratar eje o metal blanco y que puede reemplazar la tecnología convencional obsoleta empleada actualmente en las fundiciones de cobre.

B) Del desarrollo del proyecto se obtendrán tres productos principales: Un nuevo proceso de producción de cobre blister tanto para concentrados de cobre estándar como altos en arsénico; un proceso alternativo a la tecnología convencional de conversión y parámetros de diseño y operación de un reactor de fusión en capa de gran flexibilidad operacional. Los nuevos procesos a desarrollar tendrán como base el diseño de este nuevo reactor.

Para concentrados de cobre limpios (bajo arsénico) la nueva tecnología reemplazará las etapas de fusión y conversión. Para concentrados altos en arsénico y otras impurezas, como los de Chuquicamata, El Teniente y Paipote y en particular los de la futura mina MM, esta tecnología puede reemplazar ventajosamente la etapa de fusión en CT o flash permitiendo fundir a metal blanco de alta ley y remover simultáneamente sobre el 96% del arsénico. El metal blanco producido se convertirá a cobre blister en forma continua empleando un convertidor continuo (CT modificado), tecnología en desarrollo por la fundición de Chuquicamata de la Div. Codelco Norte. Esta tecnología se integra en el desarrollo tecnológico propuesto por este Proyecto.

C) La nueva tecnología se desarrollará desde escala semi-piloto mediante prototipos experimentales, hasta escala piloto que además de demostrar la factibilidad técnica de los equipos y del proceso, permitirán tener información escalable para el diseño y construcción de plantas comerciales.

La etapa piloto de la tecnología es crítica por cuanto su operación exitosa demostrará las ventajas técnicas y económicas de la nueva tecnología, permitirá la determinación de la estructura de costos de esta nueva tecnología para compararla con tecnologías equivalentes..

D) La nueva tecnología puede representar un nuevo e importante avance en el área de fundición de cobre, la que está dominada por la fusión Outokumpu.
La nueva tecnología estaría desarrollada en tres años hasta su nivel de piloto. La adopción por una fundición nacional (Chuquicamata) se haría inicialmente como complemento de las etapas de fusión/conversión para concentrados muy altos en arsénico que no pueden ser procesados actualmente, como los concentrados de MM que contendrán sobre 2.5% de arsénico. A fines del tercer año del proyecto, se espera tener un reactor y proceso piloto/demostración en operación. A fines del año 5, (2 años después de terminado el proyecto), se espera que la fundición de Chuquicamata incorpore la tecnología y luego del año 7 otras fundiciones nacionales también lo incorporen.

E) En el aspecto científico-tecnológico, este desarrollo representará un avance en la comprensión de fenómenos complejos de reacción a alta temperatura en los que participan mecanismos simultáneos de transferencia de masa, calor y reacciones químicas de competencia en films de gas y líquidos (fundidos).