Proyecto D96F1005

MATERIALES DE REFERENCIA PARA METROLOGIA QUIMICA
Proyecto Número:
D96F1005
Año:1996
Concurso: TERCER CONCURSO DE INFRAESTRUCTURA FONDEF
Tipo de Proyecto:
COMPL. INFRAESTRUCTURA C&T EXISTENTE
Area Prioritaria:
MINERIA
Duración:
22 (meses)
Monto Fondef Asignado: 70
(en millones de pesos del año de adjudicación)
Sitio Web: http://


AREAS SECUNDARIAS
PESCA Y ACUICULTURA
FORESTAL
AGROPECUARIA
MANUFACTURA
DISCIPLINAS ASOCIADAS
QUIMICA ANALITICA
FISICO-QUIMICA
QUIMICA INORGANICA
QUIMICA DEL AMBIENTE

DIRECTOR GENERAL
Nombre: GABRIELA INES MASSIFF DE LA FUENTE
Dirección: AV. EL CONDOR 844, CIUDAD EMPRESARIAL, HUECHURABA
PROVIDENCIA
Teléfono: 2428180

INSTITUCION PRINCIPAL
Nombre: INTEC-CHILE
Dirección: AV. DEL CONDOR NORTE 844, CIUDAD EMPRESARIAL HUECHURABA
SANTIAGO
Teléfono: 2428100

OTRAS INSTITUCIONES
Instituciones Ejecutoras NO CONSIDERA
Otras Contrapartes CENTRO NACIONAL DE METROLOGIA
NATIONAL INSTITUTE OF STANDARD

RESUMEN

RESUMEN

El objetivo principal del proyecto es complementar la infraestructura ya existente en INTEC-CHILE para prepara materiales de referencia y apoyar el desarrollo de un Laboratorio de Metrología Química en Chile.
En la mayoría de los paises existe un Centro Nacional de Metrología el cual custodia los patrones nacionales y generalmente incluye un laboratorio de metrología química que opera los programas de ensayo interlaboratorio y provee de materiales de referencia a los laboratorios de ensayo de organismos técnicos y de la industria, entregando de esta forma la trazabilidad a los ensayos químicos.
En Chile no existe un organismo oficial de metrología. Hasta hace muy poco tiempo no existía conciencia del problema, derivada de ésta carencia.
La razón por la cual se ha hecho crítico el problema metrológico en el país, proviene de la certificación de conformidad y del aseguramiento de la calidad (normas de la serie ISO 9000 e ISO 14000) exigido por los mercados externos y más aún a raíz de todos los acuerdos económicos en que Chile está participando, tales como APEC, MERCOSUR.